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氫氣還原氣氛爐為周期作業式高溫熱處理設備，采用雙層殼體結構，最高使用溫度 1200℃，控溫精度 ±1℃。支持抽真空與通入多種工藝氣體，搭載 30 段程序控溫系統，升溫速率可調，具備密封水冷、多重防護設計。適用于高校、科研院所及企業，可完成氣氛燒結、還原等實驗與生產作業。
更新日期：2026-06-12
型號：QLJZ-1200
廠商性質：生產廠家
真空氣氛爐（觸摸屏）是一款高性能高溫熱處理設備，最高溫度可達 1200℃，控溫精度 ±1.0℃，支持多段程序控溫。設備可通入氮氣、氬氣等惰性氣體，搭配真空系統與安全防護，爐膛結構耐用，操作智能便捷，適用于材料燒結、實驗熱處理等場景。
更新日期：2026-06-12
型號：JZQL1200-36l
廠商性質：生產廠家
